Система Gatan для препарирования образцов

Исследование методами просвечивающей электронной микроскопии (ПЭМ) требует специальной процедуры препарирования изучаемого объекта. Это обусловлено тем, что формирование изображения в просвечивающем электронном микроскопе происходит за счёт дифракции высокоэнергетических электронов на атомной структуре образца, и для получения чёткого изображения в общем случае требуется, чтобы электроны претерпевали лишь единичный акт взаимодействия с исследуемым материалом. Для выполнения этого условия толщина образца в интересующей исследователя области должна составлять не более 50 нм. При этом привносимые препарированием искажения в его структуру должны быть сведены к минимуму.

Для этих целей в лаборатории высокоразрешающей просвечивающей электронной микроскопии НОЦ ННГУ применяется система приготовления ПЭМ-образцов фирмы Gatan. Последняя включает в себя ряд методик и технических решений, позволяющих производить препарирование различных твердотельных объектов, а также неорганических сыпучих материалов.

У сотрудников лаборатории имеется значительный опыт в подготовке ПЭМ-образцов из самого широкого круга объектов. Среди них структуры кремний на сапфире (КНС); полупроводниковые наноструктуры на стандартных кремниевых и арсенид галлиевых подложках; металлы; керамики; сыпучие материалы, такие как углеродные нанотрубки. Для планарных структур препарирование может быть произведено как на поперечном срезе (cross-section), так и в продольном сечении (plan-view).

Оборудование для препарирования ПЭМ-образцов:

  • система прецизионного ионного травления (PIPS®, Gatan);
  • устройство для создания полусферических углублений (Dimple Grider Model 656, Gatan);
  • устройство для ультразвуковой резки (Tuned Piezo Cutting Tool, Gatan).


Перейти на официальную страницу "Лаборатории высокоразрешающей просвечивающей электронной микроскопии"

Вернуться к списку